金属(M)・酸化物絶縁体(O)・半導体(S)の三層構造になった半導体。金属酸化膜半導体、金属酸化物半導体とも。
半導体の上にSiO2(酸化珪素)などの絶縁体で薄膜を作り、さらに金属電極を蒸着したもの。
電極と半導体の間が絶縁されているため、電極に直流電圧を掛けても電流は流れない。しかし電圧による電界が半導体に加わるため、半導体の中の電荷(キャリア、電子または正孔)が電界により移動する。この性質を利用するのがMOSである。
MOSは電極が直流的に絶縁されているため、入力インピーダンスが高く、消費電力を低く抑えることができる。
MOSの主な使われ方は次の通り。
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